原标题：四方达获得发明专利授权：“聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示四方达（300179）新获得一项发明专利授权，专利名为“聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法”，专利申请号为CN202210604230.3，授权日为2024年3月26日。

专利摘要：本发明涉及聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨，特别涉及聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法。聚晶金刚石复合片的脱钴/脱钨方法包括以下步骤：步骤一，设置密封壳体，使密封壳体与聚晶金刚石复合片的外周面形成密封，并且在聚晶金刚石复合片的聚晶金刚石层的待脱钴/脱钨部位上方形成空腔，使待脱钴/脱钨部位暴露于所述空腔中；步骤二，在所述空腔中注入脱钴/脱钨液，使聚晶金刚石层的待脱钴/脱钨部位浸没在脱钴/脱钨液中以实现脱钴/脱钨。上述方案能够解决现有的脱钴/脱钨方法脱钴/脱钨液用量大、成本高、可能造成的环境污染问题大的问题。

今年以来四方达新获得专利授权15个，较去年同期增加了15.38%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了6296.03万元，同比减1.93%。

数据来源：企查查

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