三星取得光学邻近校正专利，提高掩模图像的精确度_科技资讯

三星取得光学邻近校正专利，提高掩模图像的精确度

金融界

2024-04-03 01:55:00

金融界2024年4月1日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“用于执行光学邻近校正的方法和使用其制造掩模的方法“，授权公告号CN110879507B，申请日期为2019年4月。

专利摘要显示，公开了一种用于执行光学邻近校正(OPC)的方法和使用其制造掩模的方法。提供一种用于执行OPC的方法以及通过使用OPC制造掩模的方法，所述执行OPC的方法通过有效地反映掩模形貌效应或图案的边缘之间的耦合效应来提高掩模图像的精确度。用于执行OPC的方法包括：提取掩模上的图案的布局的边缘；提取边缘中相邻边缘之间的宽度等于或小于特定距离的边缘对；针对边缘对中的每一个边缘对产生耦合边缘；通过将边缘滤波器应用于边缘来产生第一掩模图像；通过将耦合滤波器应用于耦合边缘来校正第一掩模图像。

来源：金融界

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