金融界2024年4月9日消息,据国家知识产权局公告,东睦新材料集团股份有限公司申请一项名为“一种基于径向磁涡旋的自旋纳米振荡器“,公开号CN117858612A,申请日期为2023年12月。
专利摘要显示,一种基于径向磁涡旋的自旋纳米振荡器,包括从上至下依次层叠设置的电极、重金属层、自由层、间隔层、钉扎层和衬底,其中衬底为硅衬底,电极、重金属层、自由层、间隔层、钉扎层和衬底之间分别采用磁控溅射、真空蒸镀或分子束外延方式结合固定,在自由层的上端面中心区域成型有中心区域低两边高、能够限制径向磁涡旋进动的势垒结构,以此实现提高输出信号频率和调节信号频率的功能。本发明的自旋纳米振荡器尺寸小、功耗低、易于生产,同时在大电流密度下工作稳定,克服了传统自旋纳米振荡器中涡旋核易在边界处发生湮灭的缺点,提高了实用性和稳定性,还具有提高输出信号频率和调节信号频率的功能,可应用于高频化、小型化的集成电子电路中,具有广阔的应用前景。
来源:金融界
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