金融界2024年4月9日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社申请一项名为“垂直存储器装置“,公开号CN117858511A,申请日期为2023年9月。
专利摘要显示,提供了一种垂直存储器装置。所述垂直存储器装置包括:基底、第一子半导体图案和第二子半导体图案以及第一单元结构和第二单元结构。基底包括第一区域和第二区域,第二区域在第一方向上具有与第一区域相同的长度,第一区域在与第一方向垂直的第二方向上具有第一宽度,并且第二区域在第二方向上具有比第一宽度小的第二宽度。第一子半导体图案覆盖第一区域,并且第一子半导体图案的一部分具有第一厚度。第二子半导体图案覆盖第二区域,并且具有比第一厚度小的第二厚度。第一共源极接触件和第二共源极接触件分别设置在第一图案和第二图案的在第二方向上的边缘上。
来源:金融界