金融界2025年5月20日消息,国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司申请一项名为“像差校正光学系统”的专利,公开号CN120019317A,申请日期为2023年09月。
专利摘要显示,一种用于像差校正的光学装置包括:用于在第一横向方向上对宽带辐射束进行空间色散的束色散元件;用于在上述色散之后对宽带辐射束进行聚焦的聚焦透镜,其中上述聚焦透镜被布置为使得经色散的宽带辐射束在至少一次通过中穿过聚焦透镜的至少一个偏心位置,其中上述偏心位置是在第二横向方向上从聚焦透镜的中心位移的位置,其中第一横向方向和第二横向方向相互垂直并且平行于聚焦透镜的焦平面;以及相对于宽带辐射束的至少一部分在第二横向方向上位移以基本补偿横向色差的至少一个像差补偿透镜。
来源:金融界