奥比中光-UW取得处理直方图专利，提高测量精度_科技资讯

奥比中光-UW取得处理直方图专利，提高测量精度

金融界

2024-05-07 03:20:04

金融界2024年5月6日消息，据国家知识产权局公告，奥比中光科技集团股份有限公司取得一项名为“一种处理直方图的方法、距离测量系统及距离测量设备“，授权公告号CN112731425B，申请日期为2020年11月。

专利摘要显示，本发明公开了一种处理直方图的方法、距离测量系统及距离测量设备，包括步骤：S10、对原始直方图进行合并，处理获得第一飞行时间；S20、根据所述第一飞行时间计算环境光子均值；S30、基于所述环境光子均值对所述原始直方图进行处理获得第二直方图；S40、根据所述第二直方图计算飞行时间。本发明通过合并时间bin进行粗寻峰，在原始直方图上计算得到每个时间bin环境光的均值光子数，对去除环境光均值后的原始直方图进行粗算和细算，以获得飞行时间，最大程度地降低了信号光、环境光和器件噪声的影响，提高了测量精度。

来源：金融界

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