芯片是科技产业的命根子，但真正难啃的骨头在制造环节。特别是7纳米以下的芯片制造，全球能玩转的厂商就三家——台积电、三星、英特尔。中芯国际算摸到了等效7纳米的边儿，其他像格芯、联电这些还在10纳米以上晃悠。

为啥先进工艺这么重要？因为芯片越先进，性能越强，耗电越低。美国为了保住自己的芯片霸主地位，可没少下狠手——禁止美国、日本、荷兰的企业把先进芯片制造设备卖给中国。

尤其是ASML的EUV光刻机，被卡得死死的。毕竟现在所有5纳米及以下的芯片，都得靠EUV光刻机才能造出来。

不过，事情没那么绝对。台积电前副总林本坚博士，可是浸润式光刻机方案的提出者，在这领域是妥妥的权威。他说了，浸润式光刻机的极限可不止7纳米。用上多重曝光技术，造5纳米芯片没问题，理论上3纳米也能冲一冲。

但多重曝光也不是万能的。芯片制造效率会掉下来，成本会涨上去，良率也会受影响。毕竟浸润式光刻机的分辨率摆在那儿，一块芯片的电路得拆成更多次光刻，光刻次数噌噌往上涨。可要是没有EUV光刻机，又想造5纳米芯片，那只能硬着头皮上，先造出来再说，效率、成本、良率这些都得往后排。

中国早就从ASML买了不少浸润式光刻机。这些机器理论上能支持到5纳米，甚至3纳米的芯片制造。要是真能搞定5纳米、3纳米芯片，那美国的芯片禁令可就形同虚设了——禁令想卡住中国先进芯片制造的路，结果发现根本卡不住。

当然，这事儿没那么容易。有了浸润式光刻机，还得攻克一堆技术难题。比如多重曝光后的良率控制、成本控制，还有生产效率的提升。这些都不是一蹴而就的，得慢慢来。所以虽然理论上能造，但实际推出5纳米、3纳米芯片还得等上一段时间。

不过，趋势已经很明显了。中国手里有浸润式光刻机，又有林本坚这样的权威背书，芯片制造的路子算是被趟开了一条。美国想靠禁令完全卡住中国先进芯片制造，现在看来是越来越难了。毕竟技术是死的，人是活的。只要肯下功夫，突破只是时间问题。

所以说，芯片禁令能不能真正卡住中国，还真得打个问号。中国芯片产业的突围，可能就藏在这些被忽略的技术细节里。