国家知识产权局信息显示，武汉颐光科技有限公司申请一项名为“建立光谱库的方法、监控厚度的方法、装置、抛光设备”的专利，公开号CN121267784A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本公开是关于一种建立光谱库的方法、监控厚度的方法、装置、抛光设备。该建立光谱库的方法包括：基于光学探测模块采集样片的实测能量反射率光谱，获取光学探测模块的入射光在研磨液和目标样片的第一研磨层之间界面的第一电场反射率和入射光在第一研磨层和目标样片的第一基底层之间界面的第二电场反射率；基于第一电场反射率、第二电场反射率、入射光的波长、入射光在研磨层的折射率和研磨层的厚度，建立理论总电场反射率模型；基于理论总电场反射率模型，获取理论能量反射率模型；基于理论能量反射率模型，计算对应于不同研磨层厚度的理论能量反射率光谱，以生成光谱库。通过本公开，可以提高建立光谱库的效率，同时得到更精细的光谱库。

天眼查资料显示，武汉颐光科技有限公司，成立于2013年，位于武汉市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉颐光科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目87次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息84条，此外企业还拥有行政许可4个。

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来源：市场资讯