金融界2024年2月22日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司取得一项名为“光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路“,授权公告号CN113764439B,申请日期为2021年9月。
专利摘要显示,本申请提供一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路,光电子集成基板中的光学传感器采用第一光电二极管和第二光电二极管层叠设置的结构,且第一光电二极管和第二光电二极管至少部分交叠,第一光电二极管吸收的信号光的波长与第二光电二极管吸收的信号光的波长不同。本申请通过使两个光电二极管分别吸收不同波长的光信号,实现双通道通信,提高了通信速度,并且由于两个光电二极管互相交叠,也避免了额外增加像素面积,有利于显示功能的集成。
来源:金融界