英特尔1.4纳米芯片制造工艺首次亮相
中国电子报
2024-02-23 20:46:27

原标题:英特尔1.4纳米芯片制造工艺首次亮相

北京时间2月22日,英特尔CEO帕特·基辛格在美国圣何塞举行的Intel Foundry Direct Connect大会上发布了最新代工进展,包括全新制程技术路线图以及新的客户和生态伙伴合作,并表达了其在2030年成为全球第二大代工厂的愿景。

在现场发布的最新制程路线图中,英特尔首次公布了14A(1.4nm)以及其演进版本14A-E。英特尔预计在2027年前开发出14A,并将在该制程节点上首次采用高数值孔径光刻机。

会上还公布了Intel3、Intel 18A及Intel 14A技术的演进版本。据介绍,Intel 3-T技术已利用硅通孔技术对3D先进封装设计进行了精细化的改良,并计划不久后投入大规模生产。此外,英特尔还着重展示了在成熟制程节点上所取得的突破,例如,今年1月份宣布与UMC共同研发的全新12纳米节点技术。

帕特·基辛格同时介绍了代工模式的最新进展。为满足AI时代对算力的需求,英特尔首推面向AI时代的系统级代工(Intel Foundry)。该模式是将英特尔公司分为两大部分,一是负责产品设计的Intel Product,二是负责代工制造的Intel Foundry。二者虽仍属于同一家公司,但又相对独立,即Intel Foundry的财务会进行单独核算。英特尔表示,该模式能够让英特尔向内部和外部客户提供平等的代工服务。

最后,帕特·基辛格表示,英特尔在其18A制程节点上迎来了新的客户和生态合作伙伴。微软将在其设计的一款芯片中采用Intel 18A制程节点。此外,在18A制程节点上,英特尔还迎来了生态系统合作伙伴,Synopsys、Cadence、Siemens和Ansys等均确认其工具、设计流程和IP组合已完成针对英特尔先进封装和18A制程技术的验证,可帮助代工客户加速基于业界首推背面供电方案的Intel 18A制程节点的先进芯片设计。

作者丨沈丛

编辑丨张心怡

美编丨马利亚

监制丨连晓东

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