原创 曙光已现，国产浸润式DUV光刻机，快要来了？
当前芯片制造工艺，均依赖于光刻工艺，所以光刻机是最重要的核心设备之一。
但是大家也清楚，目前国产光刻机的水平，与全球顶尖水平确实有差距。
如下图所示，目前国产上海微电子最强的光刻机，其节点还在90纳米，处于低端水平。而这个90nm，其实也就是干式DUV光刻机的水平。
而在干式DUV之上，还有浸润式DUV，然后再是EUV光刻机。
不同的光刻机，对应着不同的光刻工艺，也对应着不同的芯片制造水平，这个一一对应关系，如下图所示。
浸润式DUV属于第五代，可以制造7nm芯片，据说最终还可以制造5nm芯片。但5nm之下，就必须用到EUV光刻机了。
目前ASML的EUV光刻机，不卖给我们，高端DUV光刻机都限售，所以对于我们而言，不说研发出EUV，至少要先研发出浸润式DUV光刻机来，这样制造5nm芯片就不用愁了。
而从现在的情况来看，浸润式DUV离我们应该不远了。
浸润式DUV实际上与干式DUV差别不大，只是在晶圆上加了一层水，让光线进入水之后折射，那么193nm的波长，等效于134nm，这样波长短了，分辨率就提高了。
所以光源、透镜、工作台之类的几乎都是一样的，就是在工作台上面，加了一层浸润式系统，也就是一层水，多了这么一个核心环节。
而早在几年前，国内就传出，已经在研发浸润式系统，并且有了一定突破，而如今几年时间过去了，我觉得应该是有突破的。
去年国内曝光了一台国产氟化氩光刻机，这台光刻机采用193nm波长，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，已经是干式DUV的最高水平了。
所以，合理推测，接下来浸润式DUV，离我们真的近了，一旦有了浸润式DUV，那么我们用自己的光刻机，也能够制造5nm芯片，那还担心什么？
另外在EUV这个档次，国内在研发EBL电子束技术，也在研发纳米压印技术，并且都有了进展，未来绕过EUV，也是有可能的，所以国产光刻机，真的到了爆发的前夜了，不信大家拭目以待吧。
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