证券之星消息，根据企查查数据显示天合光能（688599）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种涂层液及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202110662261.X，授权日为2024年6月7日。

专利摘要：本发明涉及一种涂层液及其制备方法和应用，所述涂层液包括如下组分：液态硅树脂、乙烯基硅油、催化剂和有机溶剂。本发明所述涂层液，以液态硅树脂为乙烯基硅油的载体，利用有机硅低表面能物理特性，完成网版在更窄线宽印刷过程中不易被堵网，达到窄线宽印刷，实现降低正银单耗和提升电池极片效率的目的。

今年以来天合光能新获得专利授权205个，较去年同期增加了177.03%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了15.43亿元，同比增26.42%。

数据来源：企查查

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